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平面拋光研磨機(jī)械設(shè)備的工作原理，依據(jù)設(shè)備結(jié)構(gòu)和應(yīng)用工藝的不同，主要可歸納為以下幾種類型，每種原理適用于不同精度和表面處理要求的平面工件（如金屬、陶瓷、玻璃、晶圓、塑料等）：

一、雙面研磨拋光原理

平面拋光研磨機(jī)械工作原理：

工件夾持在上下兩個磨盤之間，通過 上下盤反向旋轉(zhuǎn) 實現(xiàn)均勻磨削或拋光；

工件在行星齒輪系統(tǒng)或游星輪中運行，實現(xiàn)自轉(zhuǎn)+公轉(zhuǎn)，提高平整度和效率；

通常配合使用研磨液或拋光液（含磨粒）。

平面拋光研磨機(jī)械特點：

精度高（可達(dá)μm級甚至nm級）；

適用于金屬、陶瓷、硅片、玻璃等高精度要求工件；

適合高平面度 + 高平行度控制。

二、單面拋光/研磨原理

工作原理：

工件放置于一個旋轉(zhuǎn)工作盤上，頂部有拋光頭/壓塊施壓；

利用拋光墊或研磨盤，加壓+旋轉(zhuǎn)對工件進(jìn)行單面處理；

拋光液/研磨液持續(xù)注入。

平面拋光研磨機(jī)械特點：

操作簡單，適合大尺寸或單面要求高的工件；

適用于平板玻璃、鏡片、壓電陶瓷等；

拋光效果受工件重心和分布影響較大。